搜索
首页
MEMS加工
光刻
刻蚀
镀膜
键合
外延·掺杂
切割·打孔
CMP减薄·抛光
测试服务
台阶仪
膜厚仪
3D轮廓仪
SEM扫描电子显微镜
薄膜应力仪
FIB聚焦离子束
原子力显微镜
半导体材料
衬底
光刻胶
光刻板
行业动态
关于我们
公司简介
核心优势
合作院校
联系我们
中
EN
首页
MEMS加工
光刻
刻蚀
镀膜
键合
外延·掺杂
切割·打孔
CMP减薄·抛光
测试服务
台阶仪
膜厚仪
3D轮廓仪
SEM扫描电子显微镜
薄膜应力仪
FIB聚焦离子束
原子力显微镜
半导体材料
衬底
光刻胶
光刻板
行业动态
关于我们
公司简介
核心优势
合作院校
联系我们
切割·打孔
工艺介绍
切割有时也叫“划片”,切割的目的是将整个晶圆上每一个独立的IC/MEMS通过激光或者高速旋转的金刚石刀片切割开来,以便在后续的封装中对单个IC/MEMS进行粘贴、键合等操作。
185 0512 2288
工艺能力
切割工艺
硅,石英,陶瓷等,可分为激光隐形切割和激光烧灼切割
样品尺寸:
8寸向下兼容,厚度100um-700um
刀片切割:
刀片类型:硬刀,软刀
可切割材料:
Si,Ge,玻璃,石英,陶瓷等100um-2000um
打孔工艺
样品尺寸:
8寸向下兼容
激光打孔打孔:
Si,玻璃,石英,陶瓷等各种材质的微米级孔径
MEMS加工
光刻
刻蚀
镀膜
键合
外延·掺杂
切割·打孔
CMP减薄·抛光
测试服务
台阶仪
膜厚仪
3D轮廓仪
SEM扫描电子显微镜
薄膜应力仪
FIB聚焦离子束
原子力显微镜
半导体材料
衬底
光刻胶
光刻板
行业动态
关于我们
公司简介
核心优势
合作院校
联系我们
Copyright © 苏州晶溯微纳科技有限公司 版权所有 备案号:
苏ICP备2025173942号-1
网站建设
法律声明
|
隐私声明
|
在线咨询
返回顶部
请您留言
提交